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pvd真空电镀的基本原理主要是物理学气相沉积，是当今国际上广泛运用的先进的表面处理技术。其原理便是在真空条件下，利用气体放电使汽体或被蒸发物质部分离化，在气体离子或被蒸发物质离子轰击作用下把蒸发物或其生成物沉积在基材上。

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