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PVD工艺要求真空环境中的所有部件无灰尘、铁屑、锈蚀等污染物,同时基材外观应光滑,无气孔、内焊等缺陷。只有满足这些条件,才能确保PVD工艺的成功实施,制备出性能优良、外观美观的膜层。
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