真空溅镀，是真空溅射镀 膜的简称，是一种物理香蕉视频色版的方法。真空香蕉视频色版主要指一类需要在较高真空度下进行的香蕉视频色版，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

需要香蕉视频色版的被称为基片，镀的材料被成为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。

蒸发香蕉视频色版一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来，并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。

对于溅射镀 膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。